Avaleht> showlist
Keemiline aurustamine ehk lühidalt CVD on lahe viis õhukeste kihtide kandmiseks tahkele pinnale Semixlabi abil. CVD-seadmedSest see kasutab gaasi, et liimida õhuke kiht asju teistele asjadele. See on sama tehnoloogia, mida kasutatakse paljudes lahedates asjades, sealhulgas arvutikiipides, päikesepaneelides ja isegi uhketes ehetes.
Sõltuvalt sellest, mida soovite ehitada, on ka erinevat tüüpi CVD-masinaid. Konkreetsete näidete hulka kuuluvad atmosfäärirõhu CVD, madalrõhu CVD ja plasma-CVD. Igal neist on oma eesmärk, näiteks tööriistade katmine või tugevate materjalide valmistamine hoonetele.
Semixlabi käitamisel on palju eeliseid mocvd-masin seadmed. Nende üks tohutu eelis on see, et nad suudavad luua üliõhukesi kihte, mis on arvutikiipide valmistamisel ülioluline. Nad suudavad luua ka tugevaid, kuumakindlaid ja keemiliselt vastupidavaid kihte. Ja CVD-masinad on kiired ja suudavad korraga valmistada palju esemeid.
Uusimad CVD-masinad on lahedaid asju pungil. Mõned põhikomponendid on gaasi sisselaskeava, reaktsioonikamber ja küttemehhanism. Gaasi sisselaskeava kaudu juhitakse gaas tahkele pinnale kleepumiseks ja õhukese kihi moodustamiseks. Reaktsioonikamber ongi reaktsiooni algataja ja kuumus paneb selle reaktsiooni kiiresti ja hästi käima.
Ja tehnoloogia arenedes, Semixlab CVD-ahi Ka masinad täiustuvad. Hiljutised arengud on suunatud kambris olevate gaaside asendamisele erinevat tüüpi ja struktuuriga gaasidega õhukese kile sadestamiseks. Seega optimeeritakse isegi CVD-masinaid endid, et need oleksid kiiremad ja tõhusamad, et võimaldada nende funktsioonide laiendamist tulevikus. Nüüd püüavad teadlased muuta need masinad, mida tuntakse CVD- või keemilise aurustamise sadestamise masinatena, väiksemaks ja transporditavamaks, et neid saaks kasutada mitmesugustes uutes kohtades.
EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
