Avaleht> showlist
Fotoresisti söövitamine on oluline protsess peente mustrite moodustamiseks elektroonilistele osadele. Fotoresist on ainulaadne materjal, mida saab valgusega kokkupuutel muuta. See kantakse pinnale vahetult enne söövitamist. Valgus kõvendab ja kaitseb fotoresistit kõige eest, mis selle all on. See Semixlab söövitav fotoresist Aitab luua kangale täpseid mustreid.
2.2 Fotoresist pealekandmine Kasutage tööriista, et kanda fotoresist Si-vahvli ülemisele pinnale. Need üksikasjad leiate jaotisest „Kuidas valmistada“, kus on juhised kihi paksuse kohta.
Valgusta fotoresist: Aseta soovitud mustriga mask fotoresisti peale ja valgusta seda UV-valgusega. Valgus tahkestab fotoresisti osad, moodustades söövitamiseks kaitsekihi.
Materjali söövitamine: Kui olete mustri näinud, kandke materjali söövitamiseks söövitusainet. Semixlab negatiivne fotoresist Joonistatud muster on fotoresisti juhiseks, kus kõvendada, ning seejärel eemaldad kõvenemata fotoresisti ja söövitad kaitsmata ala.
Oluline on õigesti söövitada! See aitab elektroonilistele osadele täpse mustri saada. Kui järgite õiget tehnikat, siis Semixlab... kuiva kile fotoresist võimaldavad toota suuri mustreid, mis on hea kvaliteediga ja väikeste vigadega. Tähelepanu pöörates detailidele ja järjepidevusele saavad tootjad toota usaldusväärseid elektroonikakomponente.
Alasöövitus: Kui te ei lase lahusel piisavalt kaua seista, siis Semixlab negatiivne positiivne fotoresist Mustri täielik ülekandumine ei ole tõenäoline. Sellisel juhul kandke söövituslahust uuesti peale ja jälgige, kuni muster on soovitud tulemusega.
Ebaühtlane söövitamine: Kui fotoresisti kiht ei ole ühtlane või pole piisavalt hästi säritatud, võib söövitamine olla ebaühtlane. Veenduge, et Semixlab fotoresistmaterjal fotoresistkile on sile ja säritus õige.
EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
