Pooljuhtide jaoks mõeldud kõrge puhtusastmega isostaatiline grafiit

Semixlab Kõrge puhtusastmega isostaatiline grafiit on oma kõrge puhtusastme, peeneteralise struktuuri, ühtlase tiheduse, kuumalöögikindluse ja suurepärase töödeldavuse tõttu laialdaselt kasutusel pooljuhtide tööstuses. Allpool on loetletud peamised valmistooted ja nende vastavad rollid kriitilistes protsessides:

Isostaatiline grafiit pooljuhtide rakenduste jaoks

1. MOCVD-s (metall-orgaaniline keemiline aurustamine)

MOCVD on GaN-i, GaAs-i ja SiC-i epitaksiaalsete kihtide valmistamise põhiprotsess. Isostaatilist grafiiti kasutatakse tavaliselt järgmiste materjalide tootmiseks:

● Sustseptorid: toimivad vahvlikandjatena, mis hoiavad ja pööravad vahvleid reaktoris. Need tagavad ühtlase soojusülekande, tagades ühtlase epitaksiaalse kasvu kogu vahvli pinnal. Tavaliselt kaetakse need CVD SiC või TaC-ga, et parandada keemilist vastupidavust ja pikendada eluiga.

● Vahvlikandjad / grafiitpaadid: kasutatakse mitme vahvli samaaegseks laadimiseks. Vahvli tasapinna säilitamiseks ja saastumise vältimiseks on vaja täpset töötlemist.

● Kütteelemendid: Grafiidist küttekehad pakuvad stabiilseid ja ühtlaseid termilisi välju, mis on kvaliteetse epitaksia jaoks hädavajalikud.

Põhiroll: Isostaatiline grafiit tagab temperatuuri ühtluse, keemilise stabiilsuse ja pika kasutusea, mis mõjutab otseselt epitaksiaalse kile kvaliteeti.

2. Lõõmutus- ja difusioonahjudes

Kõrgel temperatuuril toimuvad termilise töötlemise etapid, nagu legeeriva aine difusioon, oksüdeerimine ja lõõmutamine, tuginevad suuresti isostaatilisele grafiidile, sealhulgas:

● Difusioonahju paadid: Hoidavad plaate kõrgel temperatuuril kuumutamise ja legeeriva aine difusiooniprotsesside ajal. Grafiit tagab suurepärase termilise stabiilsuse ja minimaalse deformatsiooni korduvate termiliste tsüklite ajal.

● Vooderdised ja isolatsioonikomponendid: Grafiidist vooderdised ja kilbid kaitsevad ahjukambreid saastumise eest ja parandavad temperatuuri ühtlust.

● Küttetorud ja -elemendid: Kasutatakse takistusküttekehadena kõrge temperatuuriga keskkondades, pakkudes täpset ja ühtlast soojust.

Põhiroll: Isostaatilised grafiidikomponendid võimaldavad saastevaba, stabiilset ja korduvat kuumtöötlust, mis on oluline legeeriva aine aktiveerimiseks ja defektide vähendamiseks.

3. SiC epitaksias (4H-SiC, 6H-SiC kasv)

SiC epitaksiaalne kasv nõuab ülikõrgeid temperatuure (>1500 °C) ja korrosiivset gaasikeskkonda. Isostaatilist grafiiti kasutatakse järgmiste toodete valmistamiseks:

● SiC-kattega sustseptorid: pakuvad SiC epitaksial aluspinna tuge, tagades suurepärase soojusjaotuse ja pinna stabiilsuse äärmuslikes tingimustes.

● Grafiidist labad ja vahvlihoidjad: Kinnitavad vahvleid pöörlemise ja gaasivoolu ajal, tagades ühtlase kasvukiiruse ja kihi paksuse.

● Protsessitorude komponendid: Epitaksiaalreaktorites olevad grafiidist konstruktsiooniosad taluvad agressiivset keskkonda, säilitades samal ajal puhtuse.

Põhiroll: Isostaatiline grafiit SiC epitaksias tagab mõõtmete täpsuse, keemilise vastupidavuse ja usaldusväärse termilise haldamise, mis mõjutavad otseselt kiibi saagikust ja epitaksiaalse kile ühtlust.

Hiina juhtiva kõrge puhtusastmega isostaatilise grafiidi tarnijana on Semixlab pühendunud pooljuhtide töötlemise tööstusele täiustatud toodete ja tehniliste lahenduste pakkumisele. Ootame teie päringuid igal ajal ja loodame siiralt saada teie pikaajaliseks partneriks.