Kolme kroonlehega grafiidist tiigel

Semixlabi kolme kroonlehega grafiittiigel on loodud spetsiaalselt täiustatud Czochralski (CZ) monokristalli räni kasvusüsteemide jaoks. Selle suurepärane termiline stabiilsus, struktuuriline terviklikkus ja materjali puhtus mõjutavad otseselt kristallide kvaliteeti ja tootmissaagist.

CZ protsessis sulab polükristalliline räni kvartsist tiiglis temperatuuril üle 1420 °C, samal ajal kui ümbritsev grafiittiigel ja kuuma tsooni komponendid pakuvad mehaanilist tuge ja määravad termilise keskkonna. Grafiidi struktuuri stabiilsus on ülioluline: see kontrollib radiaalset ja aksiaalset temperatuurigradienti, mõjutab sulami konvektsiooni käitumist ja määrab lõpuks tahke-vedela liidese kuju kristalli kasvu ajal. Isegi väikesed struktuurimoonutused või pingest tingitud deformatsioonid võivad põhjustada kristalli läbimõõdu kõikumisi, hapniku kontsentratsiooni muutusi ja defektide tiheduse suurenemist.

Kolme kroonlehega grafiittiiglil on segmenteeritud struktuur, mis jagab tiigli korpuse kolmeks täppistöödeldud sektsiooniks. Selle konstruktsiooni eesmärk on leevendada pikaajalisel kõrgel temperatuuril töötamisel ja korduvatel termilistel tsüklitel tekkivaid ümbermõõdulisi termilisi pingeid. Erinevalt traditsioonilistest monoliitsetest grafiittiiglitest, mis võivad akumuleerida pingeid kogu rõngasstruktuuri ulatuses, võimaldab kolmeosaline struktuur kontrollitud paisumist ja pingete ümberjaotumist kindlatel liidestel. Tulemuseks on parem mõõtmete stabiilsus, väiksem pragunemisrisk ja suurem pikaajaline töökindlus CZ ahju keskkonnas.

Soojustehnika seisukohast on stabiilse ja sümmeetrilise temperatuurivälja säilitamine ülioluline sulavoolu mustrite ja kristallide kasvupindade kõveruse kontrollimiseks. Kolme kroonlehega grafiittiigel parandab radiaalset termilist tasakaalu, minimeerides deformatsiooni ja säilitades geomeetrilise järjepidevuse kogu kasvutsükli vältel. See aitab kaasa stabiilsetele kristallide tõmbamise tingimustele, täpsemale läbimõõdu kontrollile ja ühtlasemale hapniku infiltratsioonile ränisulamisse kvartsist tiiglist. See termiline stabiilsus on eriti oluline suure läbimõõduga valuplokkide tootmisel, millel on tavaliselt keerukamad temperatuurigradiendid ja oluliselt suuremad mehaanilised koormused.

Pooljuhtklassi grafiitkomponentide puhul on materjali puhtus ja struktuuritihedus võrdselt olulised. Kolme kroonlehega grafiittiigel on valmistatud suure tihedusega, peeneteralisest isostaatiliselt pressitud grafiidist, mille lisandite sisaldus on rangelt kontrollitud, et vähendada metalli saastumise ohtu kristalli kasvuõõnsuses. Täiustatud töötlemistehnikad tagavad segmentide vahelise range mõõtmete tolerantsi ja täpse sobivuse, säilitades mehaanilise joonduse ja minimeerides soojuslekke liidestel. Sõltuvalt konkreetsetest protsessikeskkonna nõuetest saab Semixlab integreerida ka pinnakaitsekatteid (SiC-kate, TAC-kate, pürolüütiline süsinikkate), et suurendada oksüdatsioonikindlust ja pikendada eluiga.

Semixlabi kolme kroonlehega grafiittiigel on usaldusväärne tootetehnoloogiline tugi tänapäevasele CZ monokristalli räni tootmisele. Samal ajal on Semixlab pühendunud juhtivate tehnoloogiate ja kohandatud tootelahenduste pakkumisele pooljuhtkristallide kasvuprotsesside jaoks. Ootame siiralt, et saaksime teie pikaajaliseks partneriks Hiinas.